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Sigla di plasma induced (o enhanced) chemical vapor deposition («deposizione chimica di vapori indotta [o intensificata] da un plasma»), tecnica molto usata nell’industria dei semiconduttori per produrre strati sottili di materiali con proprietà controllate e, in particolare, elevatissima purezza.

Vedi anche
concentrazióne concentrazióne chimica Quantità di una sostanza presente in una miscela omogenea o eterogenea riferita a una quantità definita della miscela stessa o di suoi componenti. Nel caso delle soluzioni si può assumere a misura della concentrazione: a) la quantità di soluto in g, presente in 100 g di soluzione ... semiconduttore In fisica, materiale che a temperatura ambiente (20 °C) presenta valori di conduttività elettrica compresi tra 104 e 10–6 S/m, intermedi quindi tra quelli propri dei conduttori metallici (dell’ordine di 107 S/m o più) e quelli propri degli isolanti (dell’ordine di 10–11 S/m o meno). Si tratta di una ... materiale In senso ampio, sostanza particolare avente determinati caratteri; ha quindi significato vicino a quello di materia, ma mentre materia indica per lo più una sostanza omogenea, materiale può indicare un insieme di sostanze anche non omogenee, le quali abbiano in comune soltanto la destinazione a un’unica ... plasma biologia In ematologia, parte liquida del sangue (circa il 55% della massa totale, nella quale è compresa anche la parte corpuscolata: globuli rossi, globuli bianchi e piastrine), di color giallo chiaro, costituita da una soluzione acquosa di proteine, glucosio, lipidi, sali minerali, enzimi, ormoni, ...
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